Remplacez l'OLED OF COG LCD pour Watch-0,96 pouce

Les caractéristiques de la présentation des cristaux liquides TFT ont principalement les caractéristiques d'une grande surface, d'une intégration élevée, d'une fonction solide, d'un faible coût, d'une technologie flexible et de champs d'application larges.

Ci-dessous, nous présenterons en détail les différentes caractéristiques de l'écran LCD TFT:

(1) grande surface: La première génération de substrat de substrat en verre de grande région (300 mmx400 mm) TFT a été produite au début des années 1990. Au premier semestre 2000, la zone du substrat en verre a été étendue à 680 mmx880 mm. Récemment, le substrat en verre de 950 mmx1200 mm a également été mis en service un transistor à couches minces .

(2) Haute intégration: la puce d'affichage TFT de 1,3 pouce utilisée pour la projection de cristal liquide a une résolution de XGA et contient des millions de pixels. L'épaisseur de film du réseau d'affichage de cristaux liquides TFT de 16,1 pouces avec une résolution SXGA (1280x1024) et du silicium amorphe n'est que de 50 nanomètres. Le niveau d'intégration des technologies Tabonglas et Systemonglass, les exigences de l'équipement et de la technologie d'approvisionnement, et la difficulté technique dépasse celles du module LCD LSI TFT traditionnel .

(3) Fonction puissante: l'écran LCD TFT a été à l'origine utilisé comme circuit d'adressage de matrice pour améliorer les caractéristiques de la vanne de lumière cristalline liquide. Pour les affichages à haute résolution, le contrôle correct de l'élément objet est obtenu par le réglage de la tension dans la plage de 0-6V (la valeur typique est de 0,2 ~ 4V), et l'écran LCD peut atteindre l'affichage à haute résolution de haute qualité TFT TFT Affichage LCD .

(4) Faible coût: les substrats en verre et les substrats en plastique résolvent fondamentalement le problème de coût des circuits intégrés à grande échelle des semi-conducteurs, ouvrant un large espace d'application pour l'application de circuits intégrés semi-conducteurs à grande échelle.

(5) Flexibilité du processus: en plus de la pulvérisation, des MCV (Dépôt chimique de vapeur) MCVD (Molecular Chemical Vapor Deposition) et d'autres processus traditionnels de formation de films, la technologie de recuit laser peut également utiliser un film amorphe, un film multi-produit et un film unique de produit unique de produit unique de produit unique et un produit unique et un produit unique de produit de produit unique et un produit unique de produit unique et un produit unique et un produit unique de produit de produit unique et de produit unique de produit unique et de produit unique de produit unique et de produit unique de produit unique de produit unique et de produit unique et de produit unique . Il peut être utilisé comme film de silicium, ainsi que d'autres groupes I-VI et un film semi-conducteur de groupe quatre V.

(6) Champs d'application larges. L'affichage des cristaux liquides LCD basés sur la technologie TFT est l'industrie du pilier de la société de l'information et peut également être appliqué à l'électroluminescence organique à transistor à couches minces en développement rapide (TFT-Oled).